Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Grating couplers using CMOS poly-silicon gate layer are demonstrated, which can be integrated with electronic circuits without adding any additional process steps. Peak coupling efficiency of ∼40% and 3dB bandwidth of ∼60nm are obtained with low back reflection.
Waveguide grating couplers based on complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) poly-silicon gate layers are designed and fabricated. Sharing the same etching profile as that of the CMOS poly-silicon gate layer, the fabrication of the grating couplers is fully embedded in the CMOS process without adding any additional masks or process steps. Peak coupling efficiency of 40% and 3 dB bandwidth of...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.