Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
K. P. Loh and co‐workers develop a method to synthesize wafer scale, high‐quality, fewlayer, hexagonal boron nitride (h‐BN) films. On page 731, they use a remotely discharged plasma beam source in high vacuum. Lithographic patterning of layer‐by‐layer stacked h‐BN and graphene films enables the fabrication of a (h‐BN‐G)n disk array, which can exhibit tunable plasmonic resonances in the infrared region...
Vertical integration of hexagonal boron nitride (h‐BN) and graphene for the fabrication of vertical field‐effect transistors or tunneling diodes has stimulated intense interest recently due to the enhanced performance offered by combining an ultrathin dielectric with a semi‐metallic system. Wafer scale fabrication and processing of these heterostructures is needed to make large scale integrated circuitry...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.