Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Photovoltaic properties of nitrogen doped amorphous carbon (a-C:N) thin films deposited on p-type silicon (p-Si) and quartz substrates by microwave (MW) surface-wave plasma (SWP) chemical vapor deposition (CVD) at low temperature (<100 degC) are analyzed in this section. Argon (Ar: 200 sccm), methane (CH4:10 sccm) and nitrogen (N: 5 sccm) were used as carrier, source and doping gases respectively...
The nitrogen doped diamond-like carbon (DLC) thin films were deposited on quartz and silicon substrates by a newly developed microwave surface-wave plasma chemical vapor deposition, aiming the application of the films for photovoltaic solar cells. For film deposition, we used argon as carrier gas, nitrogen as dopant and hydrocarbon source gases, such as camphor (C 10 H 16 O) dissolved...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.