Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Difficulties in VDSM poly gate etching process was summarized firstly. Secondly, traditional endpoint detection techniques of optical emission spectroscopy (OES) and interferometer endpoint detection (IEP) were introduced in detail. At last, by constructing new endpoint detection system, and applying multi-robust algorithms, the endpoint is pre-found for the patterned 90 nm wafers which expected give...
By the analysis of difficulties in VDSM poly gate etching process, firstly, this paper discussed traditional endpoint detection techniques of optical emission spectroscopy (OES) and interferometer endpoint detection (IEP) in detail, then, constructing our innovated endpoint detection system, and based on the complicated signal processing of optical and electrical signal from VDSM poly gate etching...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.