Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Electrochemical impedance spectroscopy (EIS) is employed to study the competitive reactions of surface corrosion and passivating film formation on a Cu-rotating disc electrode (RDE) in pH-adjusted solutions of H 2 O 2 , acetic acid (HAc) and ammonium dodecyl sulfate (ADS). The surface reactions that occur at the open circuit potential of this system are relevant for chemical mechanical...
The efficiency of chemical mechanical or electrochemical mechanical planarization (CMP or ECMP) carried out in the fabrication of integrated circuits is largely governed by the functional chemicals used in these processes. In this work, we study the individual and combined chemical and electrochemical effects of a selected set of such chemicals that can potentially support both CMP and ECMP of copper...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.