Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A three-dimensional (3D) profile simulator that integrates aerial image module, exposure module, post-exposure bake (PEB) module and development module is presented in this paper for the inclined/multi-directional ultraviolet (UV) lithography of negative thick photoresist such as SU-8. Based on the scalar diffraction theory, the improved paraxial approximation and Fresnel approximation solutions are...
A two-dimensional (2D) simulator that integrates aerial image simulation two-dimensional (2D) simulator that integrates aerial image simulation module, exposure simulation module, post-exposure bake (PEB) simulation module and development simulation module is presented for the deep UV lithography of thick photoresists such as SU-8 photoresists. A method based on Fresnel diffraction is developed to...
SU-8 photoresist is a chemically amplified negative resist used in MEMS to make microstructures with high aspect ratios. The simulation of the light intensity distribution in the SU-8 PR is very useful for us to give the final profile of the lithography and plan the experiments. Here, a simple estimation model of the simulation of the deep UV light intensity distribution is developed considering of...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.