Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Co films with various thicknesses were selectively deposited as Cu capping layers by a chemical vapor deposition technique. Both in-situ and ex-situ Co/SiC(N,H), metal/dielectric, capping processes were evaluated and shown comparable parametrics to the control reference, which contains only SiC(N,H) cap layer. A dependence of Cu electromigration (EM) resistance on the deposited Co thickness was observed...
As the current-carrying capability of a copper line is reduced due to interconnect dimension shrinkage, self-aligned CoWP metal-cap has been reported to be helpful to improve degraded electromigration (EM) reliability. However, adoption of the metal cap in general further exacerbates the already problematic low-k dielectric TDDB reliability at 32nm and beyond. This paper provides a comprehensive study...
Selective CVD Ru cap deposition process has been developed for BEOL Cu/low-k integration. Selectivity of CVD Ru deposition between Cu and dielectrics is investigated. Electrical performance, electromigration (EM) lifetime, voltage ramp (I-V), and time-dependent-dielectric-breakdown (TDDB) are also characterized for Cu interconnects capped with CVD Ru. This selective CVD Ru cap process is a good candidate...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.