Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
In this paper we compare water and ozone as oxidants in the Al2O3 ALD reaction in terms of surface passivation quality. The experiments show that O3 produces a high negative charge density up to 7-10 12 cm −2 even in as-deposited film, which is different from water based Al2O3 that requires a separate annealing step to activate the negative charge. In general, the ozone process produces...
We have studied the surface passivation of p- and n-type silicon by thermal atomic layer deposited (ALD) Al2O3. The main emphasis is on different ALD reactant combinations and especially on using ozone as an oxidant. Thermal stability of Al2O3 will also be briefly addressed. Our results show that in p-type CZ-Si Al2O3 leads to much higher passivation than thermal oxidation, independent of the reactants...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.