Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper presents an Ultra-Low Leakage (ULL) 55nm Deeply Depleted Channel (DDC) process technology for low power Internet of Things (IoT) applications. The DDC ULL devices provide 67% reduction in threshold (VT) variation due to Random Dopant Fluctuation (RDF). Circuit techniques such as subthreshold operation and reverse body biasing (RBB) are co-designed with the technology to maximize the energy/power...
This paper presents an Ultra-Low Leakage (ULL) 55nm Deeply Depleted Channel (DDC) process technology for low power Internet of Things (IoT) applications. The DDC ULL devices provide 67% reduction in threshold (VT) variation due to Random Dopant Fluctuation (RDF). Circuit techniques such as subthreshold operation and reverse body biasing (RBB) are co-designed with the technology to maximize the energy/power...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.