Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Cu films were deposited on Si (100) substrates at room temperature by a non-mass separated ion beam deposition method. The effect of the negative substrate bias voltage on the property of the Cu films was investigated by using field emission scanning electron microscopy and secondary ion mass spectroscopy. The Cu film deposited at the negative bias voltage of -50 V showed an extremely fine and homogeneous...
Cu thin films as a seed layer were deposited on Si (100) substrates by applying a negative substrate bias voltage using a non-mass separated ion beam deposition method. Using resistivity measurement, X-ray diffraction analysis, atomic force microscopy, secondary ion mass spectroscopy, and scanning electron microscopy, the Cu films were characterized. The Cu films deposited at the substrate bias voltage...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.