Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A universal route for manipulating polymer semiconductors physically and chemically orthogonal to the sequential solution coating and etching processes that are involved in conventional photolithography, which is termed an orthogonal polymer semiconductor gel, is demonstrated by Moon Sung Kang, Hojin Lee, Do Hwan Kim, and co‐workers in article number 1901400. Ultimately, the proposed strategy is expected...
A universal method that enables utilization of conventional photolithography for processing a variety of polymer semiconductors is developed. The method relies on imparting chemical and physical orthogonality to a polymer film via formation of a semi‐interpenetrating diphasic polymer network with a bridged polysilsesquioxane structure, which is termed an orthogonal polymer semiconductor gel. The synthesized...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.