Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS) using synchrotron radiation was applied for monitoring in situ gas source molecular beam epitaxy (GSMBE) of silicon with disilane on a Si(001)2 x 1 surface. By the in situ UPS observation, information on the hydrogen adsorption state, the hydrogen-free coverage, the work function and the growth rate could be obtained during GSMBE. From the Arrhenius plots...
Ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS) using synchrotron radiation was applied for monitoring in situ gas source molecular beam epitaxy (GSMBE) of silicon with disilane on a Si(001)2 1 surface. By the in situ UPS observation, information on the hydrogen adsorption state, the hydrogen-free coverage, the work function and the growth rate could be obtained during GSMBE. From the Arrhenius plots...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.