Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Future of microwave, power and photonics industry is focused on GaN due to its extraordinary material properties such as wide and direct band gap, large thermal and chemical stability, high breakdown voltage, high saturation velocity. Formation of devices for these applications requires a material selective etching which is performed via wet-etching process. In this paper, temperature dependent etching...
Change of linearity and gain with different drain and gate bias has been studied for AlGaN/GaN HEMT on Sapphire substrate. While linearity increases with higher drain bias, maximum gain of the device decreases. Generation of more phonon and its related scattering of electrons decrease the mobility of carries. It further minimizes the drain current at high longitudinal field on 2DEG channel.
High quality pseudomorphic Al0.15Ga0.85As/GaAs heterostructure was grown on an semi-insulating GaAs(100) substrate by Molecular Beam Epitaxy(MBE). Analysis of this structure was done by Photoluminescence (PL), HALL and High Resolution X-Ray diffraction (HRXRD). The nominal structure was confirmed by HRXRD, and aluminum mole fraction was measured from peak separation of the AlGaAs-GaAs (004) reflections...
Power consumption has always been one of the driving factors for acceptance of any new technology in the field of electronics. It is well known that SON is a brilliant candidate in place of bulk MOS for use in CMOS technology. In our paper we investigate the modification of the threshold voltages in a Silicon-on-Nothing (SON) device by changing the dielectric material layer resting below the front...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.