Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The development of GaAs JFET (junction field-effect transistor) low noise and low distortion amplifier and mixer MMICs (monolithic microwave integrated circuits) for front-end use in L-band personal communications is discussed. These MMICs can be operated by a 3.0-V single biasing supply with a very low current dissipation of 4.0 mA. In order to achieve excellent low intermodulation distortion, a...
A novel flip-flop circuit configuration is proposed for very high speed GaAs LSIs. A T-connected flip-flop circuit was fabricated using 0.5 mu m GaAs junction FETs. It operates at a maximum toggle frequency of 7.0 GHz with a power consumption of 10.8 mW.<<ETX>>
A divide-by-256/258 dual-modulus prescalar IC has been successfully fabricated using enhancement-mode GaAs JFETs. The maximum operation frequency of 10.4 GHz is obtained by a 0.5 mu m gate length and buried p-layer JFET technology. The prescalar IC has sufficient operational margin to make it compatible with Si bipolar ECL circuits over a wide frequency range.<<ETX>>
The effects of thinning the FLOTEX EEPROM tunnel oxide on its reliability are investigated using capacitors and cell structures with oxide thickness ranging from 47 to 100 AA. A low-electric-field oxide leakage current is induced by charge injection stressing, and it increases with decreasing oxide thickness. Its conduction mechanism is found to be different from that caused by positive charge accumulation...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.