Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A metal-high-k bandgap-engineered SONOS (MA BE-SONOS) with an additional SiO2 buffer layer is proposed. The thin SiO2 (5 ~ 6 nm) layer between the high-k (Al2O3) and nitride serves to prevent shallow trap generation. Contrary to the previously proposed MANOS or MA BE-SONOS devices using a simple high-k top dielectric, this composite structure eliminates the unstable high-k/nitride interface. Experimental...
A high-performance body tied FinFET BE-SONOS device is demonstrated, suitable for NAND Flash memory scaling beyond 30 nm technology node. BE-SONOS offers efficient hole tunneling erase and excellent data retention. When integrated into a FinFET structure, a much higher program/erase speed is obtained, owing to the inherent field enhancement (FE) effect around the fin tip. In this work, a very scaled...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.