Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A typical 6-layered metal-dielectric film structure of SiO2 (57.3 nm)/Cr (2.9 nm)/SiO2 (72.9 nm)/Cr (6.6 nm)/SiO2 (57.6 nm)/Cu (>100.0 nm) was designed and fabricated by magnetron sputtering. It showed a high solar absorption of about 95.8% in the wavelength range of 250–2000 nm, a low thermal emittance of about 0.104 at 600 K and good thermal stability at 673 K after annealing for 12 h in vacuum...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.