Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Low-temperature Cu/Sn/Cu solid-state-diffusion (SSD) bonding has been investigated in this paper. Twenty-micrometer fine-pitch bumps with daisy-chain and Kelvin structures were fabricated by high-efficiency and low-cost electroplating process. Before bonding, the bump surface was treated with Ar(5% H2) plasma. Wafer-level bonding was performed with a pressure of 6.7 MPa at 200 °C for 60 min. Microstructure...
In this paper, wafer level room temperature ultrafine pitch Cu-Cu direct bonding was accomplished followed by annealing process at the temperature of 300 °C for 30 min. Cu pad pitches of 15μm, 20μm and 25μm with different pad size of 2μm, 3μm and 4μm were designed and fabricated on 300mm wafers. Additionally, Cu pad pitch of 6μm, 7μm, 8μm with Cu pad size of 3μm was also designed on the wafer by considering...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.