Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
We compare the electrical properties and interface characteristics in terms of nitrogen depth distribution and hydrogen diffusion behavior of two CVD oxide tunnel films that were nitrided by NO and N2O gas, respectively. The N2O-oxynitride shows a stronger resistance against the approach of the SiO2/Si interface by diffusing hydrogen in nuclear reaction analysis. This H diffusion behavior correlates...
Interface characteristics with respect to nitrogen-distribution and hydrogen-diffusion behavior were evaluated for two model tunnel oxides nitrided by NO and N2O gas, respectively. Nuclear reaction analysis reveals a different resistance of the two interfaces against the approach by H, which allows us to correlate the characteristic N-distribution of the tunnel oxide with a H-diffusion barrier. From...
In order to realize the effective dielectric constant (k eff)=2.4 for 32 nm-node copper (Cu) dual-damascene (DD) interconnects, a spin-on-dielectric (SOD) SiOC (k=2.0) as the inter-level dielectric and plasma-induced damage restoration treatment were successfully demonstrated. It was obtained that good via resistance and stress-induced voiding (SiV) reliability. In addition, CoW-cap and thin SiC (k=3...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.