The Infona portal uses cookies, i.e. strings of text saved by a browser on the user's device. The portal can access those files and use them to remember the user's data, such as their chosen settings (screen view, interface language, etc.), or their login data. By using the Infona portal the user accepts automatic saving and using this information for portal operation purposes. More information on the subject can be found in the Privacy Policy and Terms of Service. By closing this window the user confirms that they have read the information on cookie usage, and they accept the privacy policy and the way cookies are used by the portal. You can change the cookie settings in your browser.
Przedstawiono wyniki badań układu magnetronowego WMP 100x2500 przeznaczonego do otrzymywania powłok cienkowarstwowych na wielkogabarytowych podłożach. W ramach prac badawczych opracowano koncepcję, wykonano dokumentację konstrukcyjną i wykonano magnetronowy układ rozpylający. Prototyp WMP100x500 jest oryginalnym krajowym rozwiązaniem konstrukcyjnym, które będzie wykorzystane na linii produkcyjnej,...
Celem badań było opracowanie prototypowej linii do przemysłowego osadzania cienkich warstw na wielkogabarytowe podłoża. Prototypowe urządzenie wykonano w wersji wsadowej (nanoszenie cienkich warstw w oddzielnych cyklach próżniowych). Opracowano konstrukcję linii wyposażonej w oryginalne układy sterowania cyklem pompowania oraz procesem rozpylania magnetronowego (magnetron planarny prostokątny}.
W artykule zaprezentowano wyniki badań niestandardowych technologii nanoszenia cienkich warstw metodą impulsowego rozpylania magnetronowego. Warstwy otrzymywano za pomocą oryginalnych wyrzutni magnetronowych typu WM (planarne, cylindryczne), w szczególności przystosowanych do prowadzenia procesów wysokowydajnych. Badano procesy impulsowego, magnetronowego autorozpylania oraz impulsowego, reaktywnego...
Badano polową emisję elektronową z kompozytowych warstw TiOx + Ti utworzonych przez rozpylanie magnetronowe targetu Ti w atmosferze argonowo-tlenowej. Przez zmianę cząstkowego ciśnienia tlenu uzyskano cztery katody z kompozytami o zmiennej proporcji fazy dielektrycznej TiOx do fazy metalicznej Ti. Katoda o maksymalnej ilości fazy Ti była nietrwała (zwarcie). Pozostałe katody, wraz z malejącą zawartością...
Wydajność procesów reaktywnego rozpylania magnetronowego jest w dużej mierze determinowana przez zjawiska zachodzące na powierzchni materiału rozpylanego. Większość związków na niej się tworzących cechuje się współczynnikiem rozpylania niższym niż czysty materiał, co znacznie wpływa na szybkość osadzania. Celem pracy było pokazanie możliwości śledzenia in situ zjawisk zachodzących na materiale rozpylanym...
Aluminium oxide trhin films were deposited with high rate reactive pulsed magnetron sputtering of the aluminium target in argon and oxygen mixture. Experiments showed that properties of achieved films were comparable for conventionally sputtered layers. The main purpose was to explain behaviour of the high rate sputtering classical Berg's model. The parameters which were important for efficiency of...
Badano proces impulsowego, reaktywnego magnetronowego osadzania cienkich warstw. Celem prac było określenie warunków pracy magnetronu z punktu widzenia stabilnego, wydajnego i kontrolowanego procesu otrzymywania cienkich warstw związków chemicznych (dielektrycznych). Rozpylano metaliczne targety o średnicy 50 mm. Badano charakterystyki procesu rozpylania pod kątem określenia modu pracy magnetronu...
Badano proces impulsowego, magnetronowego osadzania cienkich warstw. Celem prac było określenie wpływu parametrów układu magnetycznego oraz trybu pracy magnetronu na warunki osadzania warstw. Rozpylano targety o średnicy 50 mm: i) Cu (wpływ konfiguracji układu magnetycznego, ii) Al (otrzymywanie warstw w obecności gazu reaktywnego - mod argonowy, mod reaktywny). Stopień rozbalansowania magnetronu...
Badano proces reaktywnego, impulsowego, magnetronowego osadzania cienkich warstw krzemu w atmosferze mieszaniny argonu i tlenu. Rozpylano target Si o średnicy 50 mm przy różnych mocach i ciśnieniach parcjalnych tlenu. Mierzono szybkość osadzania warstw SiOx oraz tzw. moc krążącą - charakterystyczny parametr zasilacza impulsowego DORA. Na tej podstawie określano mody pracy reaktywnego rozpylania magnetronowego...
Przedstawiono wyniki badań wybranych niekonwencjonalnych metod rozpylania magnetronowego na tle światowych trendów w tej dziedzinie. Zaprezentowano reaktywne, impulsowe rozpylanie magnetronowe i impulsowe autorozpylanie magnetronowe. Wykazano, że możliwe jest wysokowydajne nanoszenie warstw dielektrycznych (Al x O y AlN x , SiO x ) w tzw. metalicznym modzie rozpylania, tzn. z szybkościami porównywalnymi...
Wykonano komputerowe symulacje ruchu naładowanych cząstek w wyładowaniu jarzeniowym magnetronu kołowego WMK-50. Symulowano warunki pracy magnetronu za pomocą pakietu programów obliczających tory cząstek naładowanych poruszających się w polach elektrycznym i magnetycznym. Otrzymane wyniki porównano z obserwowanymi zjawiskami występującymi podczas procesów rozpylania. Przewiduje się wykorzystanie wyników...
Porównywano parametry wyładowania jarzeniowego podczas stałoprądowych i impulsowych procesów rozpylania przy dużych gęstościach mocy wydzielanej w targecie. Rozpylano target Cu średnicy 50 mm i grubości początkowej 8 mm. Parametry wyładowania jarzeniowego badano metodą OES w zakresie długości fal 400...410 nm. Celem badań było określenie roli jonów Cu (404,3 nm) podczas procesu rozpylania magnetronowego...
Warstwy aluminium domieszkowane gazem reaktywnym (azot, tlen) otrzymywano w procesie reaktywnego impulsowego rozpylania magnetronowego. Mod pracy magnetronu (stan powierzchni targetu) określano na podstawie zależności szybkości nanoszenia i mocy zasilania w funkcji ciśnienia parcjalnego gazu reaktywnego. Maksymalna szybkość nanoszenia przeźroczystych i twardych warstw (AlNx, AlxOy) wynosiła odpowiednio...
Zaprezentowano konstrukcję oraz zasadę działania rezonansowego zasilacza impulsowego DPS. Za pomocą systemu do magnetronowego nanoszenia warstw (zasilacz DPS MSS-10 i magnetron WMK-50) otrzymywano warstwy AINx w procesie reaktywnego rozpylania targetu Al w atmosferze mieszaniny Ar i N2. Wykazano istnienie zależności pomiędzy stanem powierzchni targetu (modem pracy magnetronu) a parametrami zasilania...
Set the date range to filter the displayed results. You can set a starting date, ending date or both. You can enter the dates manually or choose them from the calendar.