Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Iodine is an effective catalyst to obtain homogeneous and smooth metal films with good interface properties. We adopted an iodine catalyst during the nickel film deposition by using atomic layer deposition (ALD) with bis(1-dimethylamino-2-methyl-2-butoxide)nickel [Ni(dmamb) 2 ] precursor and hydrogen reactant gas. The effect of iodine catalyst to nickel nucleation process was studied. The...
(Ba,Sr)TiO 3 (BST) thin films were grown on platinized Si wafers by liquid source misted chemical deposition (LSMCD). The electrical properties of BST films were investigated on Pt/SiO 2 /Si and Pt/Ti/SiO 2 /Si. BST thin films were deposited at room temperature and a pressure of 700 torr followed by a pre-baking step at 240 o C and a baking step at 500 o C....
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.