Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
TaC x N y films were characterized and evaluated for suitability as copper diffusion barriers for advanced interconnect structures. Films were deposited from pentakis(dimethylamino)tantalum, Ta[N(CH 3 ) 2 ] 5 , and methane by thermal chemical vapor deposition (CVD) at 365 o C and plasma enhanced CVD (PECVD) at 185-245 o C. Film composition was...
Tungsten carbide films were grown by chemical vapor deposition using W(CO) 6 and C 2 H 4 between 250 and 450 o C. Pyrolysis studies indicate W(CO) 6 thermally decomposes over the 150-200 o C temperature range with or without ethylene. Carbon incorporation increased from 13 to ~33% when C 2 H 4 was co-fed with W(CO) 6 . The W/C...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.