Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Silicon radiation sensors fabricated with micromachining technologies offer a number of advantages compared to their planar counterparts, making them appealing for an increasing number of applications. This paper provides an overview of the most interesting developments in this field by Fondazione Bruno Kessler in collaboration with the University of Trento.
The aim of this work is to present the main technological developments carried out at FBK for micro machined radiation sensors used in High Energy Physics (HEP) experiments. We report on the main technological issues to integrate silicon etching (wet and dry) techniques in the fabrication flow for silicon detector and we show some examples of innovative detectors realized by means of these technologies
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.