Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
For the analytical description of doping profiles after ion implantation, good multilayer models are required to describe the implantation through thin layers, e.g. a scattering oxide or non-vertical mask edges. In this paper, benefits and drawbacks of some published models are discussed, and an improvement is suggested. Comparisons with results from Monte Carlo simulations and SIMS measurements are...
For the measurement of dopant concentrations in two dimensions (2d), a delineation technique has been optimized. The method yields up to three dopant equiconcentration lines in one sample. The concentrations of these lines can be changed by modification of the etching conditions. This technique is applied to the investigation of 2d ion implantation profiles.
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.