Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A 6-layer continuous and uniform MoS2 film is successfully grown by thermal chemical vapor deposition (CVD) through optimizing its growth conditions, and is used as channel material to fabricate top-gated transistors by conventional lithography process. Also, the effects of a buffer layer on the electrical performance of the CVD MoS2 transistor are investigated, and enhanced carrier mobility (0.69...
LEDs with different density of V-shaped pits are numerically investigated. To validate the used models and parameters, the experimentally external quantum efficiency (EQE) curve of blue InGaN/GaN multiple quantum well light-emitting diode (LED) is fitted with the calculated EQE curve. Simulation results show that the EQE is firstly enhanced and then reduced with an increase in the density of pits...
We have demonstrated that the engineering of Si channel grains in vertical 3D devices is of tremendous importance for read current, leading to up to 10 times higher ID, 3 times steeper STS slope, tighter ID and STS distributions, better channel-oxide interface, less defective grain boundaries and larger memory window. LTA arises as a potential candidate to engineer the Si channel microstructure. The...
Continued miniaturization of transistors has resulted in unprecedented increase in device count leading to high compute capability albeit with increase in energy consumption. Here, we present our research on advanced non silicon electronic material systems and novel device architectures - quantum-well FETs, inter-band tunnel FETs and tunnel-coupled nanodot devices - for heterogeneous integration on...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.