Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
A novel near-field nano-imaging device based on nanophotodetector (NPD) array is presented. Simulation shows the smallest obtainable resolution is 150 nm for 1.55 mum wavelength. Various photolithography, e-beam lithography, wafer bonding and etching back techniques have been developed to realize the thin-film based photodetector structures. A slab version NPD device has been successfully fabricated...
A new approach for direct sub-10 nm pattern transfer using spin-coated ZrO2 is presented. The sample InP compound etching selectivity to ZrO2 is over 13:1 with highest aspect ratio of 35:1. The smallest feature is 9 nm.
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.