Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
This paper reports a side-by-side comparison of two wireless and passive sensing systems: inductive and electromagnetic (EM) couplings for an application of in-situ and real-time monitoring of wafer cleanliness in the rinsing process at semiconductor/microelectromechanical system (MEMS) manufacturing facilities. A MEMS sensor is designed to measure the resistivity of water, corresponding to the ionic...
Semiconductor facilities consume large amounts of water, most of which is used for rinsing of wafers during cleaning steps. To optimize water use, real-time and in situ monitoring of wafer cleanliness during rinsing is necessary. Yet no prior art is real-time and in situ. In this paper, we present a passive wireless sensing system capable of measuring the residual contamination on the wafers in real-time...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.