Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
The influence of oxygen partial pressure during the deposition of piezoelectric strontium-doped lead zirconate titanate thin films is reported. The thin films have been deposited by RF magnetron sputtering in an atmosphere of high purity argon and oxygen (in the ratio of 9:1), on platinum-coated silicon substrates (heated to 650°C). The influence of oxygen partial pressure is studied to understand...
This article discusses the results of transmission electron microscopy (TEM)-based investigation of nickel silicide (NiSi) thin films grown on silicon. Nickel silicide is currently used as the CMOS technology standard for local interconnects and in electrical contacts. Films were characterized with a range of TEM-based techniques along with glancing angle X-ray diffraction. The nickel silicide thin...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.