Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
An innovative planarization system named “plasma fusion CMP” was developed for aiming to establish a high-efficiency/high-quality polishing process of the hard-to-process materials. In this study, we applied this system to processing of diamond substrate instead of conventional CMP (Chemical Mechanical Polishing) process. We confirmed that stable atmospheric plasma was generated in our dynamic system,...
In recent years, wide band gap semiconductors, such as SiC and GaN, are attracting extensive attention as an alternative material of Si semiconductors. However, issues such as reduction of the production cost and improvement of the productivity prevent wide-spread application of these materials in the world. This study was conducted under the collaborative research and development with various specialized...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.