Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
MgO thin films were deposited with r.f. magnetron sputtering method. Deposition parameters such as working pressure and r.f. power were found to influence properties of deposited films. As working pressure increased, crystallinity deteriorated while rms surface roughness decreased and film density increased. In this case, grain size did not change much compared with the case of r.f. power. On the...
Al 2 O 3 capping layer was deposited by DC reactive sputtering method on MgO protective layer deposited by RF magnetron sputtering method. Thickness of capping layer, Al 2 O 3 , was varied from 1 to 15 nm. Deposited MgO thin films were hydrated in the ambience of 80% humidity and at room temperature. Surface morphology and rms roughness were observed by SEM and AMF,...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.