Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Thin films of TiO 2 doped with vanadium and palladium, prepared by the magnetron sputtering method, were studied by means of X-ray diffraction (XRD), Scanning Electron Microscopy with Energy Disperse Spectrometer (SEM–EDS) and Atomic Force Microscopy (AFM). Investigations have brought important information about microstructure due to dopant incorporation in the TiO 2 host lattice....
In this work, investigations of electrical properties of Eu- and Pd-doped TiO2 thin films have been outlined. Thin films were deposited by low pressure hot target reactive magnetron sputtering from metallic Ti-Eu-Pd mosaic target on conventional silicon wafers. For electrical characterization of prepared thin films both temperature dependent resistivity and current to voltage (I-V) characteristics...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.