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Characterization of ZnO thin film grown on c-plane substrates by MO-CVD: Effect of substrate annealing temperature, vicinal-cut angle and miscut direction
Laboratoire Physico-chimie des Matériaux, Unité de Service Commun de Recherche «High resolution X-ray diffractometer», Département de Physique, Université de Monastir, Faculté des Sciences de Monastir, Avenue de l’Environnement, 5019 Monastir, Tunisia
Laboratoire Physico-chimie des Matériaux, Unité de Service Commun de Recherche «High resolution X-ray diffractometer», Département de Physique, Université de Monastir, Faculté des Sciences de Monastir, Avenue de l’Environnement, 5019 Monastir, Tunisia
Institut Supérieur des Sciences Appliquées et de Technologie de Sousse, Université de Sousse, Tunisia
Groupe d’Etude de la Matière Condensée, Centre National de la Recherche Scientifique/Université de Versailles Saint Quentin en Yvelines, 78035 Versailles, France
Groupe d’Etude de la Matière Condensée, Centre National de la Recherche Scientifique/Université de Versailles Saint Quentin en Yvelines, 78035 Versailles, France
Groupe d’Etude de la Matière Condensée, Centre National de la Recherche Scientifique/Université de Versailles Saint Quentin en Yvelines, 78035 Versailles, France
Groupe d’Etude de la Matière Condensée, Centre National de la Recherche Scientifique/Université de Versailles Saint Quentin en Yvelines, 78035 Versailles, France
Laboratoire Physico-chimie des Matériaux, Unité de Service Commun de Recherche «High resolution X-ray diffractometer», Département de Physique, Université de Monastir, Faculté des Sciences de Monastir, Avenue de l’Environnement, 5019 Monastir, Tunisia