Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Reactive magnetron co-sputtering of two confocal SiO 2 and Er 2 O 3 cathodes in argon–hydrogen plasma was used to deposit Er-doped Si-rich SiO 2 layers. The effects of the deposition conditions (such as RF power applied on each cathode and total plasma pressure) and annealing treatment (temperature and duration) on structural, compositional and photoluminescence (PL)...
The structural and optical emission properties of Er-doped silicon-rich silica layers containing 10 21 atcm −3 of erbium are studied as a function of deposition conditions and annealing treatment. Magnetron co-sputtering of three confocal targets (Si, SiO 2 and Er 2 O 3 ) under a plasma of pure argon was used to deposit the layers at 500°C. The silicon excess...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.