Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
Plasma-enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon oxide (SiO x ) thin films have been widely used in Micro/Nano Electro Mechanical Systems to form electrical and mechanical components. In this paper, we explore the use of nanoindentation techniques as a method of measuring equivalent stress–strain curves of the PECVD SiO x thin films. Four indenter tips with different geometries...
The time-dependent plastic properties of both as-deposited and annealed plasma-enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon oxide (SiO x ) thin films were probed by nanoindentation creep tests at room temperature. Our experiments found a strong size effect in the creep responses of the as-deposited PECVD SiO x thin films, which was much reduced after annealing. Based on the experimental...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.