Serwis Infona wykorzystuje pliki cookies (ciasteczka). Są to wartości tekstowe, zapamiętywane przez przeglądarkę na urządzeniu użytkownika. Nasz serwis ma dostęp do tych wartości oraz wykorzystuje je do zapamiętania danych dotyczących użytkownika, takich jak np. ustawienia (typu widok ekranu, wybór języka interfejsu), zapamiętanie zalogowania. Korzystanie z serwisu Infona oznacza zgodę na zapis informacji i ich wykorzystanie dla celów korzytania z serwisu. Więcej informacji można znaleźć w Polityce prywatności oraz Regulaminie serwisu. Zamknięcie tego okienka potwierdza zapoznanie się z informacją o plikach cookies, akceptację polityki prywatności i regulaminu oraz sposobu wykorzystywania plików cookies w serwisie. Możesz zmienić ustawienia obsługi cookies w swojej przeglądarce.
During the last years, anisotropic NdFeB films with good performance have been extensively investigated and widely used in application where high BHmax are required, such as microelectromechanical system(MEMS), magnetic recording media and millisize motors or actuators. So, many groups have tried to prepare NdFeB films by sputtering deposition[1]. But the permanent magnet performance of films always...
A robust Cu chemical mechanical polishing (CMP) process with better post CMP polishing profile, range, lower defectivity, smooth copper surface, tighten metal line sheet resistance (Rs) and pattern loading control has been evaluated during the Cu-CMP process at 28nm and beyond. Various reasons of Time-Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) failure including micro-scratches on interconnect surface post...
Podaj zakres dat dla filtrowania wyświetlonych wyników. Możesz podać datę początkową, końcową lub obie daty. Daty możesz wpisać ręcznie lub wybrać za pomocą kalendarza.